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產品簡介
KSV NIMA 交替型LB膜分析儀
KSV NIMA LB膜分析儀(全稱:Langmuir-Blodgett膜分析儀)為KSV NIMA自主研發的一款單分子層膜的制備和表征設備,是LB膜的沉積領域應用zui廣泛的一款設備。KSV NIMA為瑞典百歐林科技有限公司旗下的子品牌之一,主要經營方向為單分子層薄膜的構建與表征工具。
KSV NIMA LB膜分析儀配備了鍍膜井和鍍膜頭,在所需的堆積密度下,鍍膜頭可以用來將Langmuir膜轉移到固體基材上,鍍膜井可以在Langmuir膜下為固體樣品提供空間。將Langmuir膜轉移到樣品上,密度,厚度及均勻性等性質將會保留,從而實現了制備不同組成的多分子層結構的可能。與其他有機薄膜沉積技術相比,LB沉積方法受功能性分子的分子結構限制影響很小,這意味著LB技術是*能夠進行自下向上的一種組裝方法。
KSV NIMA交替型LB膜分析儀為我公司LB膜分析儀系列中的一款特色產品。它可用于兩種材料的交替層鍍膜,包括兩個槽體,兩個表面壓力傳感器和兩對滑障。該槽有兩種尺寸,標準型和大型。
位于氣-液或液-液界面處不可溶的功能性分子、納米顆粒、納米線或微粒所形成的單分子層可定義為Langmuir膜。這些分子能夠在界面處自由移動,具有較強的流動性,易于控制其堆積密度,研究單分子層的行為。將材料沉積在淺池(稱頂槽)中的水亞相上,可以得到Langmuir膜。在滑障的作用下,單分子層可以被壓縮。表面壓力即堆積密度可以通過Langmuir膜分析儀的壓力傳感器進行控制。
在進行典型的等溫壓縮測試時,單分子層先從二維的氣相(G)轉變到液相(L)zui后形成有序的固相(S)。在氣相中,分子間的相互作用力比較弱;當表面積減小,分子間的堆積更為緊密,并開始發生相互作用;在固相時,分子的堆積是有序的,導致表面壓迅速增大。當表面壓達到zui大值即塌縮點后,單分子層的堆積不再可控。

圖1 單分子層膜狀態受表面壓力增加的影響
LB膜沉積過程是將樣品從單分子層中垂直拉出(圖2a),通過反復沉積技術可制備多層LB膜(圖2b),親水性及疏水性樣品均可在液相或氣相中沉積為單分子層。

圖2 (a). LB沉積過程示意圖;(b). 多層單分子膜的制備
交替型LB膜分析儀的鍍膜過程如圖3所示。當使用兩個單分子層壓縮沉積池和一個空白沉積池時,可實現交替鍍膜,浸漬過程可在3個沉積池中選擇任意路徑多次循環(圖3a);在共同的亞相(淺藍色)上方,有兩種不同的單分子層(紫色和深藍色)(圖3b);上臂將樣品向下通過單分子膜,由下臂接住樣品。沉積循環也可從亞相開始,進行*層鍍膜(圖3c);下臂可根據需要旋轉到另一單分子層的沉積池或空白沉積池中,改變沉積池(圖3d);下臂提起樣品,傳遞給上臂(樣品從任意一側通過兩個單分子層中任意一個),進行第二層鍍膜(圖3e)。

圖3 (a). 交替沉積池構造示意;(b). 樣品在在夾具上;(c). *層鍍膜;(d). 改變沉積池;(e). 第二層鍍膜
4.2.1 聯用或相關分析技術
KSV NIMA LB膜分析儀可與界面紅外反射吸收光譜儀(PM-IRRAS),布魯斯特角顯微鏡(BAM),界面剪切流變儀(ISR),熒光顯微鏡,X射線等光學表征技術聯用或對樣品進行后續分析。具體如:
4.2.2 本公司可提供聯用儀器簡介
帶極化模塊的界面紅外反射吸收光譜儀主要用來決定分子的取向和化學組成。
可進行薄膜的均一性、相行為和形貌的單分子層成像和光學觀測。
3. 表面電位測量儀(SPOT)
使用無損振蕩板式電容技術來監測薄膜的電位變化,從而對單分子層的電學性質進行表征。提供堆積密度和取向等信息,可對任何Langmuir等溫測試進行補充。
4. 界面剪切流變儀(ISR)
這種*的剪切流變儀可以測量界面處的粘彈性。適用于氣-液或油-水的研究,在控制表面壓的同時,可對粘彈性進行分析。
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