MiniSIMS ToF是一款高性價比的TOF-SIMS飛行時間二次離子質譜儀，用于絕緣、導電表面的成像分析與化學成分分析。MiniSIMS ToF是研究表面化...

SWC-4000兆聲晶圓（掩模版）清洗機：Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機提供高可重復性、高均勻性及的兆聲清洗、兆聲輔助下光刻膠剝離，以及濕法刻蝕...

NLD-4000（ICPM）PEALD系統：ALD原子層沉積可以滿足準確膜厚控制以及高深寬比結構的保形沉積，這方面ALD原子層沉積遠超過其它沉積技術。由于前驅體...

NSC-4000（M）磁控濺射系統：帶有水冷或者加熱（可加熱到700度）功能，可達到到8“旋轉平臺，支持到4個偏軸平面磁控管。系統配套渦輪分子泵，極限真空可達1...

NPE-4000（ICPM）ICPECVD等離子體化學氣相沉積系統: NM的PECVD能夠沉積高質量SiO2, Si3N4, 或DLC膜到Z大可達12" 的基片...

NRE-4000（M）反應離子刻蝕：獨立式RIE系統，淋浴頭氣體分布裝置以及水冷RF樣品，不銹鋼柜子以及13“的上蓋式圓柱形鋁腔,便于晶圓片裝載.腔體有兩個端口...

NEE-4000（A）全自動電子束蒸發系統：NEE-4000電子束蒸發系統為雙腔配置，樣品臺位于主腔體，二級腔體則用于安置電子束源。兩腔體之間的門閥作為預真空鎖...

NTE-3500（A）全自動熱蒸發系統：全自動立式熱蒸發系統，在有機物和金屬沉積方面具有廣泛的應用。設備具有占地面積小、干凈、均勻、可控及可重復的工藝特點。具有...

NLD-3000原子層沉積系統：ALD原子層沉積可以滿足精確膜厚控制以及高深寬比結構的保形沉積，這方面ALD原子層沉積遠超過其它沉積技術。由于前驅體流量的隨意性...

MiniSIMS-ToF飛行時間二次離子質譜儀是一款榮獲 R&D 100 獎等多項國際殊榮的臺式二次離子質譜儀，由賽恩（SAI）公司創新研發。它將在傳統上需要大...

高精度金剛石晶圓劃片機MR 200 系統軟件的設置和硬件的配置能夠實現高精度的劃線，從而實現對結構化硅片的精準切割。MR 200 是一款非常有力的工具，尤其在半...

FLATSCAN 薄膜應力測試儀用于對各種反射面（如硅片、鏡面、X 射線鏡（Goebel-mirrors）、金屬表面或拋光聚合物）的平整度、表面曲率、平均半徑和...