橢偏儀在光學鍍膜中的應用

閱讀：147 發布時間：2026-6-17

IPGWMV_P-C741_T-3_U-00309326

Part 1 光學鍍膜行業背景介紹

光學鍍膜是現代光學產業的核心支撐技術，它依托真空濺射、蒸發鍍膜、原子層沉積（ALD）等精密工藝，在玻璃、樹脂、晶體及顯示面板等基材表面制備多層納米級薄膜，通過精確調控膜層厚度、折射率與堆疊結構，實現增透、減反、高反、濾光、隔熱、抗眩光等關鍵光學功能。其應用覆蓋消費電子、車載光學、半導體、激光器件、AR/VR、航空航天及醫療影像等領域，既是現代光學系統穩定運行的基礎，也是提升制造產品性能與附加值、推動產業升級的核心環節。因此，光學鍍膜擁有重大的產業價值與戰略意義，對提升國家裝備水平、科研創新能力及推動節能智能產業發展，具有不可替代的作用。

Part 2 光學鍍膜行業的量測意義

光學薄膜利用薄膜干涉原理調控光場：當光波在薄膜中傳播時，由于薄膜厚度與折射率的不同，會在薄膜上下表面產生多光束干涉效應。這種干涉會改變光波的傳播特性，包括透射率、反射率和吸收率。因此，通過精確設計薄膜的厚度與折射率，可以有效調控光波的傳播行為，如下圖1。

圖1 光學鍍膜傳遞矩陣

光學鍍膜測量是光學設計→工藝驗證→量產控制→失效分析的全鏈條支撐，核心是通過橢偏、干涉、分光光度等技術實現光學性能的精準把控，輔以機械與環境測試保障可靠性。針對超薄膜、半導體等場景，光譜橢偏儀是優選工具。

Part 3 光學鍍膜行業的測量解決方案

實物展示

橢圓偏振光譜法是一種物理測量方法，即使用橢偏儀（SE）來獲取薄膜的厚度和光學常數。具有無損傷樣件、靈敏度高和量測速度快等優點，可精確地表征介質膜（如SiOx、SiNx等）、光電性能優異的氧化銦錫（ITO）、聚酰亞胺（PI）以及非晶硅（a-Si）等單層或多層薄膜的膜厚及材料的光學特性（如折射率、組分、各向異性和均勻性）,是一種可以滿足以上量測需求的解決方案。

型號	SE-VM-L
光斑大小	微光斑：200μm
測量光譜	*44階穆勒矩陣**
波段	380-1000nm （支持擴展至210-2500nm）
單次測量時間	1-8s
入射角	手動變角45-90°，5度間隔
找焦方式	手動找焦
支持樣件尺寸	2寸-8寸
產品優勢	光學橢偏測量解決方案，緊湊集成化，人機交互設計，使用便捷。