材料純度達(dá)到99.9999%,還需要檢測(cè)什么?
答案是:雜質(zhì)。
而且,是ppb級(jí)甚至更低水平的超痕量雜質(zhì)。
在高純材料領(lǐng)域,常用“N”表示純度。6N高純稀土,通常指主體純度達(dá)到99.9999%,對(duì)應(yīng)總雜質(zhì)含量不高于約1 ppm。
但對(duì)高純材料質(zhì)量控制來(lái)說(shuō),真正需要盯住的,往往是單個(gè)關(guān)鍵雜質(zhì)元素,甚至是一組雜質(zhì)元素的變化。
它們含量極低,卻可能影響材料性能、批次穩(wěn)定性和下游應(yīng)用可靠性。
越純,越難測(cè)。

高純稀土常用于激光晶體、高性能永磁材料、半導(dǎo)體材料、高端裝備等領(lǐng)域。
類似需求,也存在于高純金屬及難熔金屬(如鎢、錳、鉿)、金屬氧化物粉體(如氧化鉿)、電子級(jí)金屬及半導(dǎo)體濺射靶材等關(guān)鍵材料中。
這些材料要進(jìn)入高端應(yīng)用場(chǎng)景,不能只靠“做得純”,還要靠數(shù)據(jù)證明:真的夠純。
對(duì)材料企業(yè)來(lái)說(shuō),痕量雜質(zhì)分析關(guān)系到產(chǎn)品分級(jí)、工藝優(yōu)化、批次放行和客戶驗(yàn)證。
測(cè)不準(zhǔn),純度難以評(píng)價(jià)。
測(cè)不穩(wěn),批次難以復(fù)制。
測(cè)得慢,流程跟不上生產(chǎn)節(jié)奏。
證明不了,高純度就缺少進(jìn)入高端應(yīng)用的可靠依據(jù)。
雜質(zhì)很少,干擾很強(qiáng)
高純稀土檢測(cè)最難的地方,來(lái)自復(fù)雜基體干擾。
稀土元素之間性質(zhì)相近,在質(zhì)譜分析中,容易形成稀土氧化物、氫氧化物及復(fù)合多原子離子等干擾峰。
這些干擾峰可能與待測(cè)雜質(zhì)元素質(zhì)量數(shù)重疊,造成假陽(yáng)性信號(hào)或結(jié)果偏差。
對(duì)于高純樣品來(lái)說(shuō),主體稀土基體含量很高,目標(biāo)雜質(zhì)含量卻可能低至ppb甚至更低水平。兩者之間,濃度差距可達(dá)數(shù)千萬(wàn)倍以上。
這就像在一間人聲鼎沸的房間里,聽(tīng)清遠(yuǎn)處一根針落地的聲音。
看得見(jiàn)信號(hào),不代表看得清信號(hào)。
在高純稀土復(fù)雜基體分析中,傳統(tǒng)單四極桿ICP-MS面對(duì)稀土氧化物、氫氧化物等強(qiáng)質(zhì)譜干擾時(shí),往往需要借助柱分離、基體分離或復(fù)雜校正方法,流程較長(zhǎng),對(duì)方法經(jīng)驗(yàn)要求較高。
但高純材料質(zhì)量控制,不能只追求“能測(cè)”,還要更高效、更穩(wěn)定、更可復(fù)制。
給雜質(zhì)信號(hào)加上“三重屏障”
針對(duì)這一挑戰(zhàn),聚光科技旗下自主孵化子公司譜育科技,基于EXPEC 7350 Plus系列三重四極桿電感耦合等離子體質(zhì)譜儀(ICP-MS/MS),構(gòu)建了面向高純關(guān)鍵材料分析的解決方案。
該儀器具備sub-ppt 級(jí)檢出能力,可為復(fù)雜基體下的超痕量雜質(zhì)分析提供高靈敏度支撐。

譜育科技三重四極桿ICP-MS/MS組成及結(jié)構(gòu)
如果說(shuō)傳統(tǒng)分析是在復(fù)雜基體中尋找目標(biāo)信號(hào),那么三重四極桿ICP-MS/MS更像給目標(biāo)信號(hào)加上了“三重屏障”。
第一重,Q1質(zhì)量篩選,先鎖定目標(biāo)質(zhì)量數(shù)離子,減少非目標(biāo)基體離子的進(jìn)入。
第二重,碰撞/反應(yīng)池消除干擾,通過(guò)碰撞或反應(yīng)模式削減多原子離子等質(zhì)譜干擾。
第三重,后端四極桿二次質(zhì)量分析,進(jìn)一步區(qū)分目標(biāo)離子與殘留干擾信號(hào)。
這套方案的核心,不只是“看見(jiàn)更低信號(hào)”,而是在強(qiáng)基體、低含量、強(qiáng)干擾條件下,把目標(biāo)雜質(zhì)信號(hào)識(shí)別得更清楚、判斷得更準(zhǔn)確。

面向稀土復(fù)雜基體分析優(yōu)化的高效檢測(cè)系統(tǒng),集成“分離-檢測(cè)”一體化技術(shù)
在部分高純稀土及高純材料分析場(chǎng)景中,該方案可減少對(duì)復(fù)雜柱分離前處理步驟的依賴,提升分析效率和方法可復(fù)制性,為材料純度評(píng)價(jià)、工藝優(yōu)化和批次一致性控制提供數(shù)據(jù)支撐。
從15 ppb實(shí)測(cè),看向十萬(wàn)億分之一
在高純氧化釓實(shí)際樣品分析中,該方案可實(shí)現(xiàn)鋱(Tb)、鐿(Yb)、镥(Lu)等痕量雜質(zhì)元素分析,部分痕量雜質(zhì)元素實(shí)測(cè)濃度達(dá)到0.015 μg/g,即約15 ppb。
在高純氧化釹實(shí)際樣品分析中,該方案可實(shí)現(xiàn)鋱(Tb)、鏑(Dy)、鈥(Ho)等痕量雜質(zhì)元素分析,為復(fù)雜稀土基體條件下的雜質(zhì)識(shí)別和純度評(píng)價(jià)提供技術(shù)支撐。
這些數(shù)據(jù)不是儀器檢出限,而是實(shí)際樣品中的雜質(zhì)測(cè)定結(jié)果。它們可以為材料純度分級(jí)、生產(chǎn)工藝迭代、成品批次放行、批次穩(wěn)定性管控及下游客戶驗(yàn)證提供量化數(shù)據(jù)支撐。

支撐材料分級(jí)、工藝優(yōu)化、質(zhì)量放行、批次一致性控制和客戶驗(yàn)證
提純能力,決定材料能做到多純。
檢測(cè)能力,決定實(shí)驗(yàn)室能否準(zhǔn)確評(píng)價(jià)它有多純。
當(dāng)材料純度達(dá)到99.9999%時(shí),決定品質(zhì)的,不只是把材料做得更純,還有從ppb級(jí)實(shí)測(cè)結(jié)果出發(fā),繼續(xù)識(shí)別更低水平超痕量雜質(zhì)的能力。

譜育科技三重四極桿ICP-MS/MS應(yīng)用于高純稀土檢測(cè)
面向更高純度、更復(fù)雜基體、更嚴(yán)苛質(zhì)量控制要求,聚光科技將持續(xù)推進(jìn)高端質(zhì)譜技術(shù)與行業(yè)應(yīng)用方法融合,為高純稀土及高純關(guān)鍵材料的質(zhì)量評(píng)價(jià)和產(chǎn)業(yè)升級(jí)提供可靠分析支撐。
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